Suministro e instalación de un sistema de plasma para el ataque seco de capas microelectrónicas mediante la técnica de grabado iónico reactivo (RIE) con destino al Instituto de Microelectronica de Barcelona
Presupuesto Base
87.900,00€
Sin Impuestos
87.900,00€
Importe Total
106.359,00€
⬥ Adjudicaciones
Documentación
PPT.pdf
Pliego Prescripciones Técnicas
CSIC010203PA201967.pdf
Pliego Cláusulas Administrativas
Instrucciones presentacion de oferta_LICITACION.pdf
Documentación Adicional
Resolución Adjudicación
Documento General
Contrato Formalizado
Documento General
Acta del órgano de asistencia
Documento General
Acta del órgano de asistencia
Documento General
Actos públicos informativos ó de apertura de ofertas
Documento General
Acta del órgano de asistencia
Documento General
Memoria justificativa
Documento General
Documento de aprobación del expediente
Documento General
Acta del órgano de asistencia
Documento General
Resolución Clasificación
Documento General
Ubicación
Barcelona
Contacto y Plazos
Fecha Límite Presentación
Duración
3 Meses
Criterios de Adjudicación