Adquisición de un sistema multipropósito de depósito de capas finas por métodos de alto vacío que permita la deposición de una gran variedad de materiales, usando la técnica de sputtering. El sistema permitirá el depósito de materiales con múltiples fuentes magnetrón y con/sin gas reactivo, para poder depositar materiales compuestos y multicapas. También será capaz de depositar por evaporación térmica. El equipo debe de estar totalmente automatizado y ser reproducible de alta precisión. CONTRATO FINANCIADO POR MCIN/AEI/10.13039/501100011033 y por la Unión Europea “NextGenerationEU”/PRTR, en la Universidad Pablo de Olavide.

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Pliego Prescripciones Técnicas

PCAP.pdf

Pliego Cláusulas Administrativas

Anexos Pliego.docx

Documentación Adicional

Resolución de Corrección de error en Aprobación del expediente

Documento General

Acta Sesión 2023-20

Documento General

Acta Sesión 2023-21

Documento General

Acta Sesión 2023-16

Documento General

Acta Sesión 2023-17

Documento General

Informe de valoración de los criterios de adjudicación cuantificables mediante juicio de valor

Documento General

Propuesta de adjudicación

Documento General

Informe de valoración de los criterios evaluables mediante fórmulas

Documento General

Informe de valoración de los criterios de adjudicación cuantificables mediante juicio de valor

Documento General

Acta Sesión 2023-14

Documento General

Recomendaciones Plataforma

Documento General

Preguntas frecuentes

Documento General

Documento de aprobación del expediente

Documento General

Acuerdo de iniciación del expediente

Documento General

Resolución improcedencia revisión precios y de lotes

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